Etapa de desplazamiento de eje R con ajuste de rotación de inclinación, plataforma de corte de micrómetro de aluminio, paso ± 4,1°, capacidad de carga de 1 kg, para maquinaria de producción

- Etapa de inclinación y rotación de precisión: esta etapa cuenta con un cabezal de micrómetro para ajustes precisos de ± 4,1 ° de paso y rotación de ± 9,5 °, asegurando una alineación óptima para tus componentes ópticos.
- Cabezal de micrómetro de alta resolución: con una graduación de 10 μm, este cabezal de micrómetro proporciona ajustes de tono/tit de 1,85°/revolución (resolución de 0,037°) y rotación de 1,7°/revolución (resolución de 0,034°), ofreciendo una precisión excepcional para tus experimentos.
- Diseño versátil de superficie de mesa: el diseño incluye 21 agujeros para tornillos M4 con 12,5 mm de distancia y tres orificios pasantes φ6,7 para facilitar la instalación de accesorios y garantizar una fijación segura para plataformas ópticas.
- Dimensiones compactas del producto: el escenario mide φ70 x 37,5 mm, cuenta con una altura de mesa de 37,5 mm y soporta una capacidad de carga de 1 kg. Una perilla ajustada a mano permite una limitación precisa del eje XYZ y un bloqueo temporal para una mayor facilidad de funcionamiento.
- Ideal para alineación óptica: esta etapa es adecuada para la alineación y rotación de componentes ópticos y accesorios, proporcionando opciones de instalación flexibles, capacidad de carga estable y adaptabilidad para diversas configuraciones experimentales.