Etapa de desplazamiento de eje R con ajuste fino, plataforma de corte micrómetro de aleación de aluminio para maquinaria de producción, paso ± 4,1°, capacidad de carga 1 kg

- Ajustes precisos de inclinación y rotación: el escenario está equipado con un cabezal micrométrico para un control preciso, proporcionando un paso de ±4,1° y rotación de ±9,5° para garantizar una alineación óptima de los componentes ópticos.
- Alta precisión de ajuste: con una graduación micrométrica de 10 μm, el paso/inclinación se puede ajustar a 1,85 ° por revolución (resolución de 0,037 °), y la rotación se puede ajustar a 1,7 ° por revolución (resolución de 0,034 °).
- Fácil instalación de accesorios: la superficie de la mesa cuenta con 21 agujeros para tornillos M4 (12,5 mm de espacio) y 3 agujeros pasantes φ6,7, lo que facilita la instalación sencilla de accesorios y una fijación segura a la plataforma óptica.
- Compacto y operativamente práctico: mide φ70 x 37,5 mm con una altura de mesa de 37,5 mm, esta etapa soporta una capacidad de carga de 1 kg e incluye una perilla ajustada a mano para límites de eje XYZ y bloqueo temporal para facilidad de uso.
- Versátil para experimentos ópticos: diseñado para la alineación y rotación precisas de componentes ópticos y accesorios, esta etapa combina ajustes precisos, fácil instalación y capacidad de carga estable para diversas aplicaciones.