Etapa de desplazamiento manual del eje R con ajuste fino y plataforma de corte micrométrica de aleación de aluminio para maquinaria de producción, paso ± 4,1°, capacidad de carga 1 kg

- La etapa de inclinación y rotación cuenta con un cabezal micrométrico para ajustes precisos, lo que permite un paso de ±4.1° y rotación de ±9.5°, asegurando una alineación óptima de los componentes ópticos.
- Con una graduación micrométrica de 10 μm, el paso/inclinación es ajustable a 1,85° por revolución (resolución de 0,037°) y rotación a 1,7° por revolución (resolución de 0,034°), ofreciendo una alta precisión de ajuste.
- La superficie de la mesa está diseñada con 21 agujeros de tornillo M4 (12,5 mm de espacio) y 3 agujeros pasantes, lo que facilita la instalación de accesorios y garantiza una fijación segura a la plataforma óptica.
- Mide φ70 x 37,5 mm con una altura de mesa de 37,5 mm, este escenario soporta una capacidad de carga de 1 kg y cuenta con una perilla apretada a mano para límites de eje XYZ y bloqueo temporal, lo que permite un funcionamiento sencillo.
- Ideal para la alineación plana y rotación de componentes ópticos y accesorios, esta etapa ofrece un ajuste preciso, instalación versátil y capacidad de carga estable, por lo que es adecuado para una variedad de experimentos ópticos.